201、需采用均凹法确定就位道的是

　　A 前牙缺失，牙槽嵴丰满，前突者

　　B 多个牙间隙缺失者

　　C 双侧后牙游离缺失，为加大基处远中倒凹设计，设计二型卡环者

　　D 手牙非游离缺失，为加大后方基牙远中倒凹，设计一型卡环者

　　E 后牙非游离缺失，缺隙一端基牙倒凹过大者

　　202、肯氏第三类缺失者，为了加大缺隙远中基牙的远中倒凹，以便设计

　　I 型卡一半，需将模型

　　A 平放

　　B 向左倾斜

　　C向右倾斜

　　D向前倾斜

　　E 向后倾斜

　　203、8765∣缺失的患者，可摘局部义齿修复时，应取

　　A 静态印模

　　B 功能性印模

　　C无压力印模

　　D解剖式印模

　　E 一次印模

　　204、21∣12 缺失，牙槽嵴丰富，设计可摘义齿修复。确定就位道时将模型向后倾斜的目的是

　　A 加大牙槽嵴唇侧倒凹

　　B 唇侧不加基托

　　C避免人工牙与 3∣3 之间出现大的间隙

　　D避免唇侧基托与牙槽嵴之间出现大的间隙

　　E 加大人工牙的覆盖

　　205、8765∣缺失，余留牙正常，局部义齿基牙应选

　　A43∣∣

　　B43∣4

　　C43∣45

　　D43∣47

　　E4∣47

　　206、876∣578 缺失，余留牙正常。设计局部义齿时，基牙可选择

　　A5∣36

　　B5∣26

　　C5∣46

　　D4∣4

　　E54∣4

　　207、8651∣678 缺失，余留牙正常，可摘局部义齿基牙应选择

　　A74∣5

　　B72∣5

　　C743∣45

　　D42∣4

　　E73∣5

　　208、86521∣168 缺失，余留牙正常。可摘局部义齿基牙应选择

　　A43∣ 57

　　B4∣57

　　C7∣47

　　D74∣ 57

　　E73∣ 5

　　209、一患者 6∣缺失， 75∣健康，缺隙正常。可摘局部义齿的支点线可以设计成

　　A斜线式

　　B直线式

　　C横线式

　　D纵线式

　　E平面式

　　210、一患者上颌局部义齿修复。初戴时，发现弯制的后腭杆离开腭粘膜

　　2mm。处理方法是

　　A不必处理

　　B腭杆组织面加自凝树脂重衬

　　C腭杆组织面缓冲

　　D去除腭肝，让患者将义齿戴走

　　E 邓下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

　　211、一患者8765∣678 缺失，戴局部义齿五年，主诉咀嚼效能差，无其他不适。最可能的原因是

　　A义齿固位差

　　B义齿稳定差

　　C基牙负担重

　　D人工牙过度磨耗

　　E义齿合高

　　212、一患者 8765∣缺失，可摘局部义齿戴用2 年后， 4∣舌侧塑料基托折断。检查发现，义齿游离端翘动，基他部位密合，处理方法是

　　A基托折断处重新粘固

　　B游离端基托组织面重衬

　　C基托折断处重新粘固，游离端基托组织面重衬

　　D基托折断处重新粘固，游离端人工牙减径

　　E重新下颌局部义齿修复

　　213、前牙三度深覆合患者，54∣126 缺失，基托贴合无翘动，但∣12 腭侧塑料基托反复折断。处理方法是

　　A重新粘固基托

　　B重新粘固基托并加厚

　　C后牙调合，粘固基托

　　D前牙高合，粘固基托

　　E腭侧托加金属网或改做金属基托

　　答案：

　　[A2 型题 ]

　　188B　　189A　　190B　　191A　　192D　　193C　　194B　　195B

　　196A　　197B　　198C　　199A　　200B　　201B　　202E　　203B

　　204C　　205E　　206C　　207A　　208A　　209D　　210E　　211D

　　212C　　213E