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上颌后堤区的形成方法，不正确的是

来源 :焚题库 2020-06-11

中
单选题上颌后堤区的形成方法，不正确的是

A.上颌后堤区的宽度在中间区域可达4～5mm

B.上颌后堤区位于前后颤动线之间

C.用蜡刀沿后缘线刻入模型深3～5mm

D.一般在腭小凹与两侧翼上颌切迹连线后约2mm处为后堤区后缘

E.两侧牙槽嵴越浅

参考答案：C

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答案解析：在石膏模型上，用雕刻刀在颤动线处切一深度1～1.5mm的切迹，沿此切迹向前约5mm的范围内，将石膏模型轻轻刮去一层，愈向前刮除得愈少，使与上腭的黏膜面移行。

涉及考点

口腔医学技术大纲

综合练习

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