【单项选择题】第 1 题真空烤瓷炉的温度参数和时间参数主要包括(　　)。

A.预热温度，烤瓷温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间

B.预热温度，烤瓷温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间

C.现时温度，烤瓷温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间

D.现时温度，最终温度，预热时间，升温时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间

E.现时温度，最终温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间

正确答案：D

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【单项选择题】第 2 题在烤瓷过程中有一道工艺叫上釉，上釉有两种方法：自行上釉和分别上釉，其中自行上釉要求把烧好的瓷体在高于体瓷烧熔温度下保持数分钟，高于体瓷烧熔温度的范围是(　　)。

A.31～40℃

B.21～30℃

C.10℃以内

D.11～20℃

E.5℃

正确答案：C

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【单项选择题】第 3 题在烤瓷过程中不能使烤瓷件与炉膛内壁接触，如果接触，可能造成的最严重的后果是(　　)。

A.烤瓷失败

B.烤瓷失败，烤瓷件报废

C.烤瓷件与炉膛内壁发生粘连

D.炉膛报废

E.发热体损坏

正确答案：C

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